РОССИЙСКАЯ АКАДЕМИЯ НАУК

УРАЛЬСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ

ИНСТИТУТ ХИМИИ TBEPДОГО ТЕЛА
   
| | | | |
| | | |
 25.05.2006   Карта сайта     Language По-русски По-английски
Новые материалы
Экология
Электротехника и обработка материалов
Медицина
Статистика публикаци


25.05.2006

Nature 441, 489-493 (25 May 2006) | doi:10.1038/nature04796; Received 11 October 2005; Accepted 10 April 2006


Ge/Si nanowire heterostructures as high-performance field-effect transistors


Jie Xiang1,3, Wei Lu1,3, Yongjie Hu1, Yue Wu1, Hao Yan1 and Charles M. Lieber1,2



Semiconducting carbon nanotubes1, 2 and nanowires3 are potential alternatives to planar metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs)4 owing, for example, to their unique electronic structure and reduced carrier scattering caused by one-dimensional quantum confinement effects1, 5. Studies have demonstrated long carrier mean free paths at room temperature in both carbon nanotubes1, 6 and Ge/Si core/shell nanowires7. In the case of carbon nanotube FETs, devices have been fabricated that work close to the ballistic limit8. Applications of high-performance carbon nanotube FETs have been hindered, however, by difficulties in producing uniform semiconducting nanotubes, a factor not limiting nanowires, which have been prepared with reproducible electronic properties in high yield as required for large-scale integrated systems3, 9, 10. Yet whether nanowire field-effect transistors (NWFETs) can indeed outperform their planar counterparts is still unclear4. Here we report studies on Ge/Si core/shell nanowire heterostructures configured as FETs using high-kappa dielectrics in a top-gate geometry. The clean one-dimensional hole-gas in the Ge/Si nanowire heterostructures7 and enhanced gate coupling with high-kappa dielectrics give high-performance FETs values of the scaled transconductance (3.3 mS microm-1) and on-current (2.1 mA microm-1) that are three to four times greater than state-of-the-art MOSFETs and are the highest obtained on NWFETs. Furthermore, comparison of the intrinsic switching delay, tau = CV/I, which represents a key metric for device applications4, 11, shows that the performance of Ge/Si NWFETs is comparable to similar length carbon nanotube FETs and substantially exceeds the length-dependent scaling of planar silicon MOSFETs.



Дизайн и программирование N-Studio 
А Б В Г Д Е Ё Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я
  • Chen Wev .  honorary member of ISSC science council

  • Harton Vladislav Vadim  honorary member of ISSC science council

  • Lichtenstain Alexandr Iosif  honorary member of ISSC science council

  • Novikov Dimirtii Leonid  honorary member of ISSC science council

  • Yakushev Mikhail Vasilii  honorary member of ISSC science council

  • © 2004-2019 ИХТТ УрО РАН
    беременность, мода, красота, здоровье, диеты, женский журнал, здоровье детей, здоровье ребенка, красота и здоровье, жизнь и здоровье, секреты красоты, воспитание ребенка рождение ребенка,пол ребенка,воспитание ребенка,ребенок дошкольного возраста, дети дошкольного возраста,грудной ребенок,обучение ребенка,родить ребенка,загадки для детей,здоровье ребенка,зачатие ребенка,второй ребенок,определение пола ребенка,будущий ребенок медицина, клиники и больницы, болезни, врач, лечение, доктор, наркология, спид, вич, алкоголизм православные знакомства, православный сайт творчeства, православные рассказы, плохие мысли, православные психологи рождение ребенка,пол ребенка,воспитание ребенка,ребенок дошкольного возраста, дети дошкольного возраста,грудной ребенок,обучение ребенка,родить ребенка,загадки для детей,здоровье ребенка,зачатие ребенка,второй ребенок,определение пола ребенка,будущий ребенок